三乙胺硼烷
三乙胺硼烷(TEAB)和He,N2或NH3作为另外的反应气体施加在通过低压化学汽相淀积(LPCVD)生产的BCxNy层。
四乙基铵
氧化锌(ZnO)的表面上的纳米颗粒的表面活性剂(乌洛托品,溴化四乙基铵(TEAB),十六烷基三甲基溴化铵(CTAB),四辛基溴化铵(TOAB)和PVP)的存在导致在它们的光学性能的变化。
在DMF-四乙基溴化铵( TEAB)质子惰性介质中,马蔺子素连续两步单电子还原生成相应氢醌阴离子,无中间体半醌自由基的化学反应发生。
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